14:30 〜 14:45
[19p-A12-5] ミストCVD法による酸化ガリウムバッファ層を用いたコランダム型In2O3薄膜の作製
キーワード:ミスト化学気相成長法,酸化インジウム,コランダム構造
一般セッション(口頭講演)
合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス » 合同セッションK ワイドギャップ酸化物半導体材料・デバイス
2014年9月19日(金) 13:15 〜 17:45 A12 (E301)
14:30 〜 14:45
キーワード:ミスト化学気相成長法,酸化インジウム,コランダム構造