[19p-S10-1~18] 8.4 プラズマエッチング

△ [19p-S10-3] 高アスペクトシリコン加工に対応した有磁場VHFプラズマのエッチング特性

^○岩瀬拓，横川賢悦，荒瀬高男，平田昭，森政士 (日立ハイテク)

キーワード：HAR,etching,Si