2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

06.薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[20a-A10-1~10] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2014年9月20日(土) 09:30 〜 12:00 A10 (E214)

11:15 〜 11:30

[20a-A10-8] NiO薄膜を用いた抵抗変化型メモリにおける2つのモードを有するフォーミング

篠倉弘樹,西佑介,岩田達哉,木本恒暢 (京大院工)

キーワード:抵抗変化型メモリ,抵抗変化型メモリ,酸化物薄膜