[20a-A19-1~12] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[20a-A19-3] ミニマルマスクレス描画装置におけるリソグラフィー解像度の均一性制御（Ⅱ）

^○北山侑司¹，吉岡昌男^1,2，入田亮一^1,2，三宅賢治^1,2，ソマワン クンプアン^1,3，原史朗^1,3 (ミニマルファブ技術研究組合¹，PMT²，産総研³)

キーワード：ミニマルファブ,ミニマル