[20a-A19-1~12] 13.3 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[20a-A19-6] ミニマル抵抗加熱炉で形成した熱酸化膜の電気的特性（Ⅱ）

^○中戸克彦¹，居村史人¹，浅野均¹，鈴木真之佑^1,3，松田祥吾^1,3，柳沼綾美^1,3，森川清彦^1,3，服部昌^1,3，池田伸一^1,2，クンプアン ソマワン^1,2，原史朗^1,2 (ミニマルファブ技術研究組合¹，産総研²，光洋サーモシステム³)

キーワード：ミニマル