2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13.半導体A(シリコン) » 13.2 絶縁膜技術

[20a-PA3-1~7] 13.2 絶縁膜技術

2014年9月20日(土) 09:30 〜 11:30 PA3 (第1体育館)

ポスター掲示時間9:30~11:30(PA3会場)

09:30 〜 11:30

[20a-PA3-6] High-k/ High-k界面におけるダイポール形成の可能性の検討

橋口誠広1,志村昂亮1,功刀遼太1,知京豊裕3,小椋厚志4,6,佐藤真一5,6,渡邉孝信1,2,6 (早大理工1,早大ナノ機構2,物材機構3,明大理工4,兵庫県立大5,JST-CREST6)

キーワード:high-k, dipole