2014年第75回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

03.光・フォトニクス » 3.5 レーザー装置・材料

[20p-C8-1~6] 3.5 レーザー装置・材料

2014年9月20日(土) 13:00 〜 14:30 C8 (C310)

13:45 〜 14:00

[20p-C8-4] 高出力・高効率Yb:LuAGセラミックthin-diskレーザー

中尾博明1,白川晃1,植田憲一1,八木秀喜2,柳谷高公2,Birgit Weichelt3,Katrin Wentsch3,Marwan Abdou Ahmed3,Thomas Graf3 (電通大レーザー研1,神島化学工業2,シュトゥットガルト大3)

キーワード:Yb