一般セッション(口頭講演)
6 薄膜・表面 » 6.2 カーボン系薄膜
2015年9月14日(月) 09:00 〜 12:00 4F (438)
座長:比嘉 晃(琉球大)
△：奨励賞エントリー
▲：英語発表
▼：奨励賞エントリーかつ英語発表
空欄：どちらもなし
09:00 〜 09:15
〇山野 将史1、宮本 優1、今井 貴大1、針谷 達1、須田 善行1、滝川 浩史1、神谷 雅男2、瀧 真3、長谷川 祐史3、辻 信広3、西内 満美子4、榊 泰直4、近藤 公伯4 (1.豊橋技科大、2.伊藤光学工業、3.オンワード技研、4.原子力機構)
スケジュール
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09:15 〜 09:30
〇(M2)宮本 優1、山野 将史1、藤井 裕真1、針谷 達1、須田 善行1、滝川 浩史1、瀧 真2、長谷川 祐史2、辻 信広2、西内 満美子3、榊 泰直3、近藤 公伯3 (1.豊橋技科大、2.オンワード技研、3.原子力機構)
スケジュール
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09:30 〜 09:45
〇久保 暢也1、荒川 悟1、サラユット トゥンミー1、周 小龍1、小松 啓志1、齋藤 秀俊1 (1.長岡技科大)
スケジュール
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09:45 〜 10:00
〇(M2)藤井 裕真1、今井 貴大1、宮本 優1、針谷 達1、須田 善行1、滝川 浩史1、田上 英人2、神谷 雅男3、瀧 真4、長谷川 祐史4、辻 信広4、金子 智5、安井 治之6、國次 真輔7、川口 雅弘8、三浦 健一9 (1.豊橋技科大、2.北九州高専、3.伊藤光学、4.オンワード技研、5.神奈川県産技セ、6.石川工試、7.岡山工技セ、8.東京都産技研、9.大阪府産技研)
スケジュール
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10:00 〜 10:15
〇今井 貴大1、藤井 裕真1、山野 将史1、針谷 達1、須田 善行1、滝川 浩史1、神谷 雅男2、瀧 真3、長谷川 祐史3、辻 信広3 (1.豊橋技科大、2.伊藤光学工業、3.オンワード技研)
スケジュール
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10:15 〜 10:30
〇高松 大樹1、新部 正人1、神田 一浩1 (1.兵庫県大工)
スケジュール
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休憩 (10:30 〜 10:45)
10:45 〜 11:00
〇寺田 優介1、秋本 克洋1 (1.筑波大学)
スケジュール
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11:00 〜 11:15
〇(D)Sarayut Tunmee1, Pat Photongkam2, XiaoLong Zhou1, Satoru Arakawa1, Haruhiko Ito1, Kazuhiro Kanda3, Keiji Komatsu1, Hidetoshi Saitoh1 (1.Nagaoka Univ. Tech., 2.Synchrotron Light Research Inst., 3.LASTI, Univ. of Hyogo)
スケジュール
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11:15 〜 11:30
〇河内 佑太1、小出 拓也1、山口 亮弥1、本間 章彦1、平栗 健二1、大越 康晴1 (1.電機大)
スケジュール
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11:30 〜 11:45
〇(B)上遠野 惇市1、馬渕 康史1、藤岡 宏樹2、大越 康晴1、佐藤 慶介1、平塚 傑工3、坪井 仁美3、中森 秀樹3、益田 秀樹4、本田 宏志4、馬目 佳信2、平栗 健二1 (1.東京電機大、2.慈恵医大、3.ナノテック、4.ニチオン)
スケジュール
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11:45 〜 12:00
〇中村 挙子1、大花 継頼1、土屋 哲男1 (1.産総研)
スケジュール
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