2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[13a-1C-1~10] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2015年9月13日(日) 09:00 〜 11:45 1C (135)

座長:河本 直哉(山口大),松尾 直人(兵庫県立大)

09:30 〜 09:45

[13a-1C-3] RFスパッタ法を用いて室温製膜したSiO2膜のH2アニール効果

〇井村 公彦1、岡田 竜弥1、玉城 光1、野口 隆1 (1.琉球大 工)

キーワード：薄膜トランジスタ