Microwave-Induced Rapid Heating Used to Crystallize Thin Silicon Films

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

2015年9月13日(日) 09:00 〜 11:45 1C (135)

座長:河本直哉(山口大),松尾直人(兵庫県立大)

11:15 〜 11:30

〇(M1)SHUNSUKE KIMURA¹, Kosuke Ohta¹, Tomohiko Nakamura¹, Masahiko Hasumi¹, Ayuta Suzuki², Mitsuru Ushijima², Toshiyuki Sameshima¹ (1.TUAT, 2.TEL)

キーワード：crystallization,amorphous