2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.2 材料・機器光学

[13a-2A-1~10] 3.2 材料・機器光学

2015年9月13日(日) 09:00 〜 11:45 2A (211-1)

座長:尾下 善紀(ニコン),片山 龍一(福岡工大)

11:15 〜 11:30

[13a-2A-9] 高屈折率ルチル型TiO2薄膜の低温作製と光学薄膜への応用

〇(M2)石井 暁大1、及川 格1、伊村 正明2、金井 敏正2、高村 仁1 (1.東北大工、2.日本電気ガラス)

キーワード:光学薄膜、高屈折率、TiO2薄膜

高屈折率ルチル型TiO2薄膜を反射防止膜や誘電体ミラー等の光学薄膜に用いることが出来れば反射特性向上や設計自由度拡張が期待されるが、ルチル型TiO2薄膜の作製に高温が必要なため、これは未だに実現されていない。本研究ではAl添加によるTiO2薄膜中の結晶成長制御技術を開発し、高屈折率ルチル型TiO2薄膜の低温作製を可能にした。更に、高屈折率Al添加ルチル型TiO2薄膜を用いて実際に誘電体ミラーを作製し、その反射性能を評価した。