2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[13a-2Q-1~13] 6.4 薄膜新材料

2015年9月13日(日) 09:00 〜 12:15 2Q (231-1)

座長:白木 将(東北大)

09:00 〜 09:15

[13a-2Q-1] ガラス上の3次元高配向薄膜成長に向けたナノスケール周期微細構造の作製

〇大橋 一輝1、工藤 徹也1、大島 孝仁1、吉松 公平1、大友 明1,2 (1.東工大院理工、2.元素戦略)

キーワード:グラフォエピタキシー、面内配向性、自己組織化

回折格子様の立体的かつ周期的な微細構造を形成すると,ガラス基板上でも薄膜材料との界面エネルギーに異方性が生じる.この機構を利用した3次元配向薄膜の成長手法はグラフォエピタキシーと呼ばれている.薄膜の面内配向性の指標となるツイスト角分散度は,微細構造の周期が小さくなるほど向上することが知られている.本研究では,これまでに報告例がない周期が500 nm以下の微細構造を作製し,ツイスト角分散を低減することを目的としている.