2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 界面ナノ電子化学 「進化する半導体ウェットプロセス ~シリコンから化合物まで~」

[13p-1B-1~10] 界面ナノ電子化学 「進化する半導体ウェットプロセス ~シリコンから化合物まで~」

2015年9月13日(日) 13:15 〜 17:45 1B (133+134)

座長:真田 俊之(静岡大)

14:15 〜 15:00

[13p-1B-3] ナノ界面とマクロ挙動を繋ぐ感性と科学とシミュレーション

〇黒田 孝二1 (1.京都工芸繊維大)

キーワード:プロセス制御、感性、科学

最先端のバイオ・エネルギー部材開発の決め手はゆらぎ状態のナノ領域をマクロ機能構造に導くプロセス制御にある。すなわちナノ領域で熱ゆらぎ状態の材料に秩序良く核を誘発する「場」と、これを所期のマクロ構造に発展させる「プロセス整合」がものづくり技術創出の鍵となる。塗膜の表面・界面・バルクで起きる材料制御の勘どころの把握や未知現象の制御要因の獲得には、科学とシミュレーションを統合する現場感性の育みが大切である。