[13p-1B-1~10] 界面ナノ電子化学　「進化する半導体ウェットプロセス　～シリコンから化合物まで～」

[13p-1B-4] SiCの洗浄技術について

〇木下 博之¹、七種 宏樹¹、池田 潤也²、都筑 一夫²、吉本 昌広¹ (1.京都工繊大、2.新興製作所)

キーワード：半導体、炭化ケイ素、洗浄

SiC基板の洗浄には、基本的にはSiプロセスの応用が適していると考えられる。ただし、SiC基板表面においてはSi基板とは異なる特異な挙動が確認されており、これらのうち洗浄工程において考慮するべき特徴について報告する。