2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

シンポジウム(口頭講演)

シンポジウム » 界面ナノ電子化学 「進化する半導体ウェットプロセス ~シリコンから化合物まで~」

[13p-1B-1~10] 界面ナノ電子化学 「進化する半導体ウェットプロセス ~シリコンから化合物まで~」

2015年9月13日(日) 13:15 〜 17:45 1B (133+134)

座長:真田 俊之(静岡大)

16:45 〜 17:00

[13p-1B-7] SiO2の固体壁面における水およびアルコールの吸着挙動の分子動力学解析

〇中岡 聡1、山口 康隆1、川上 雅之2、矢野 大作2、山中 弘次2 (1.阪大工、2.オルガノ)

キーワード:分子動力学、半導体、アルコール