[13p-1C-1~15] 13.4 Siプロセス・配線・MEMS・集積化技術

[13p-1C-15] 局所クリーン化ミニマルPLADエア循環システム（Ⅴ）

〇谷島 孝^1,2、安井 政治^1,2、クンプアン ソマワン^1,2、前川 仁^1,2、原 史朗^1,2 (1.産総研、2.ミニマルファブ技術研究組合)

キーワード：ミニマルファブ

従来の半導体工場は、ウエハの大口径化に伴い巨大化し、建設費・運用費も巨額になっている。本研究はウエハと装置を極限まで小さくし、局所クリーン化技術により、クリーンルームレス環境でコンパクトな半導体生産を可能とする。PLAD（ミニマルシステム前室）の発塵源については既に報告しているが、今回再度パーティクル発生数の定量測定を行うとともに、換気効率の考え方を導入してパージエア流量の最適化について検討する。