[13p-1C-1~15] 13.4 Si wafer processing /MEMS/Integration technology

[13p-1C-15] Cleanroom-Free Minimal Air Circulation System for PLAD (Ⅴ)

〇Takashi Yajima^1,2, Masaharu Yasui^1,2, Khumpuang Sommawan^1,2, Hitoshi Maekawa^1,2, Shiro Hara^1,2 (1.AIST, 2.MINIMAL)

Keywords:minimal fab

従来の半導体工場は、ウエハの大口径化に伴い巨大化し、建設費・運用費も巨額になっている。本研究はウエハと装置を極限まで小さくし、局所クリーン化技術により、クリーンルームレス環境でコンパクトな半導体生産を可能とする。PLAD（ミニマルシステム前室）の発塵源については既に報告しているが、今回再度パーティクル発生数の定量測定を行うとともに、換気効率の考え方を導入してパージエア流量の最適化について検討する。