2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

15 結晶工学 » 15.4 III-V族窒化物結晶

[13p-1D-1~26] 15.4 III-V族窒化物結晶

2015年9月13日(日) 13:15 〜 20:15 1D (141+142)

座長:斉藤 真(三菱化学),岡田 成仁(山口大),岩谷 素顕(名城大)

19:45 〜 20:00

[13p-1D-25] 走査透過型電子顕微鏡(STEM)によるSi(110)基板上に成長した極薄AlN/GaN超格子中の自己形成したマイクロクラックの観察

〇沈 旭強1、高橋 言緒1、井手 利英1、清水 三聡1 (1.産総研)

キーワード:窒化物

前回に、我々はMOCVD法による4インチSi(110)基板上に単純に薄いAlN/GaN超格子中間層を挿入し、その薄いAlN/GaN超格子中間層の周期数がその上に成長されたGaNに対する影響を報告した。今回、その超格子中間層に自己形成したマイクロクラックの断面観察行ったの、その結果を報告する。