[13p-1E-1~17] 15.8 結晶評価，不純物・結晶欠陥

[13p-1E-1] Si結晶中の低濃度炭素の赤外吸収測定
(Ⅶ) 第二世代技術による1x10¹⁴ cm⁻³の濃度と1x10¹³ cm⁻³の濃度差の測定

〇渡邉 香¹、井上 直久²、後藤 安則³、大渕 真澄⁴、関 洋文⁵、鵜野 紀之⁶、河村 裕一⁷ (1.ｼｽﾃﾑｽﾞｴﾝｼﾞﾆｱﾘﾝｸﾞ、2.東京農工大、3.ﾄﾖﾀ自動車、4.ナノサイエンス、5.東レリサーチ、6.住重試験検査、7.大阪府大)

キーワード：シリコン結晶、赤外、炭素濃度

Si結晶中の低濃度炭素測定について、電子線照射によりCs濃度を低減した人工参照試料を用い、約1E+14の濃度測定を可能とした。また、次の段階の準備となる約１E+13の濃度差測定を可能とした。第二世代の赤外吸収法として、人工参照試料の他に、ベースラインから脱却してフォノンフィッティング、有炭素参照・標準融合試料などを使用した。今後は、本技術の移転を希望者に行うと共に1E+13乗台の試料の作製を進め、標準化を準備する。