[13p-1E-1~17] 15.8 結晶評価，不純物・結晶欠陥

△ [13p-1E-10] 窒素雰囲気中高温長時間熱処理によりシリコン中に発生する析出物（Ⅳ）

〇村松 徹¹、中澤 治雄¹、荻野 正明¹、寺西 秀明¹、高橋 良和¹、羽深 等² (1.富士電機、2.横国大)

キーワード：窒素析出物、FZウェーハ、熱処理

チョクラルスキー(CZ)法によるシリコン結晶を原料として浮遊帯域溶融(FZ)法により育成した結晶ウェハに、窒素雰囲気中で高温長時間の熱処理を試みた場合、窒素析出物が発生する。今回は、ウェハ中に存在する析出物の分布を評価した結果を報告する。