2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[13p-2F-1~16] 3.7 レーザープロセシング

2015年9月13日(日) 13:45 〜 18:15 2F (221-2)

座長:渡邉 歴(立命大),中村 大輔(九大)

14:00 〜 14:15

△ [13p-2F-2] 塗布光照射法における酸化スズ膜結晶化過程のその場計測

〇(M1C)勝木 司1、中島 智彦2、土屋 哲男2、湯本 敦史1、篠田 健太郎2 (1.芝浦工大院理工、2.産総研)

キーワード：酸化物、化学溶液法、エキシマレーザー