2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[13p-2F-1~16] 3.7 レーザープロセシング

2015年9月13日(日) 13:45 〜 18:15 2F (221-2)

座長:渡邉 歴(立命大),中村 大輔(九大)

14:45 〜 15:00

[13p-2F-5] 雰囲気制御下におけるチタン基板へのフェムト秒レーザーアブレーション

〇三宅 正誉志1、塚本 雅裕2、佐藤 雄二2、河 拓弥1、哲也 中畔1、陳 鵬3、永井 亜希子3、塙 隆夫3 (1.阪大院工、2.阪大接合研、3.東医歯大生材工研)

キーワード:フェムト秒レーザー、周期的微細構造、雰囲気制御

Ti基板にフェムト秒レーザーを照射すると電場の偏光方向に垂直な方向に周期的な微細構造が自己組織的に形成される.この周期的微細構造の形成過程において,レーザーアブレーションによって飛散した“デブリ”と呼ばれる微粒子が再付着し,Ti基板上を覆ってしまう.そこで本研究では,微細構造上へのデブリの再付着を低減するために,雰囲気制御下においてTi基板上へ周期的微細構造の形成を試みた.