2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

6 薄膜・表面 » 6.3 酸化物エレクトロニクス

[13p-2H-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年9月13日(日) 13:45 〜 19:15 2H (222)

座長:矢嶋 赳彬(東大),藤原 宏平(東北大)

16:15 〜 16:30

[13p-2H-11] 原子層平坦(Sr,Ba)SnO3バッファー層導入によるLa:BaSnO3薄膜の移動度の向上

〇(M2)西原 和貴1、塩貝 純一1、塚﨑 敦1,2 (1.東北大金研、2.JST さきがけ)

キーワード:透明導電膜、移動度

BaSnO3は高移動度を示す透明導電膜の候補物質として近年注目されている。しかしながら、SrTiO3基板上に薄膜成長した場合、大きな格子不整合(5.5%)が要因で、薄膜の移動度が単結晶に比べて低いことが問題となっている。本研究では、SrTiO3基板上に原子層平坦なBaSnO3 / (Sr,Ba)SnO3バッファー層を導入することによりLaドープBaSnO3の移動度の向上を観測した。