2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

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[13p-2Q-1~27] 6.4 薄膜新材料

2015年9月13日(日) 13:15 〜 20:30 2Q (231-1)

座長:西川 博昭(近畿大),田中 勝久(京大),名村 今日子(京大),篠田 健太郎(産総研)

19:30 〜 19:45

[13p-2Q-24] CeO2光学薄膜の成膜手法の検討

〇成田 彩希1、室谷 裕志1、天野 辰次2、岡 茂樹2 (1.東海大工、2.株式会社ニデック)

キーワード：酸化セリウム、光学薄膜