[13p-2Q-1~27] 6.4 薄膜新材料

[13p-2Q-7] コプラナー型放電による非平衡二次元プラズマを用いた酸化スズ薄膜の形成

堀水 懸登¹、〇増田 優貴¹、金指 翔大¹、奥谷 昌之^1,2 (1.静岡大院工、2.静岡大グリーン研)

キーワード：沿面放電、酸化スズ、プラズマ

一般的に酸化スズ薄膜の製膜法は、装置構成が大型かつ複雑なものが多い。そこで、本研究では、沿面放電により生じる非平衡二次元プラズマに焦点を当てた。この製膜技術により、製膜コストの低減や装置の簡便化だけでなく、形成膜の微細加工へ応用も可能となる。また最近では、非平衡二次元プラズマを利用したZnOの製膜を報告した。本研究では、この技術をITO透明導電膜の代替品として期待されるSnO₂の製膜に応用した。前回の発表では、大気中での非平衡二次元プラズマの製膜への応用を検討したが、不純物相の残存が確認された。そこで、今回は雰囲気制御によるプラズマ種を検討することでSnO₂相の単相化を目指した。