[13p-2Q-1~27] 6.4 Thin films and New materials

[13p-2Q-8] TiO₂ thin films prepared with non-equilibrium two-dimensional plasma under various oxygen gas concentrations

〇YUKI MASUDA¹, Masato Tan¹, Syota Kanezashi¹, Kento Horimizu¹, Masayuki Okuya^1,2 (1.Grad. School Eng., Shizuoka Univ., 2.Res. Inst. Green Sci. Tech., Shizuoka Univ.)

Keywords:surface discharge,titanium oxide,plasma

薄膜作製の多くは高温や減圧下での反応が利用されるが、本研究では、常温・常圧下で製膜が可能な沿面放電法に着目した。これまでに本研究グループでは、沿面放電法により生じる非平衡二次元プラズマを利用したZnO膜の単相化を報告した。本研究では、この技術を光触媒や色素増感太陽電池などへの応用が期待されるTiO₂の製膜へ応用する。前回の大会において、大気中での製膜におけるアナターゼ型TiO₂相の形成を報告した。この際、形成された膜は未反応前駆体が残留し、また、結晶性が低いことが課題となった。そこで、今回は製膜時の酸素濃度を制御し、プラズマ活性種を変化させることにより膜の結晶性の向上を試みた。