[13p-PA1-1~33] 10 スピントロニクス・マグネティクス（ポスター）

△ [13p-PA1-6] 強磁性共鳴下でNi₈₀Fe₂₀/Pd二層膜試料に発生する起電力の磁場中熱処理温度依存性

〇下菊 秀記¹、手木 芳男²、辻本 浩章¹、仕幸 英治¹ (1.大阪市大院工、2.大阪市大院理)

キーワード：スピンポンピング、磁場中熱処理、逆スピンホール効果

強磁性共鳴を用いたスピンポンピングにおいて、Ni₈₀Fe₂₀薄膜を磁場中熱処理することで高品質化し、スピン流生成効率が向上することが分かっている。本研究では同手段を用いた更なる純スピン流の生成効率向上を目指し、磁場中熱処理温度依存性を調査した。磁場中熱処理されたNi₈₀Fe₂₀/Pd二層膜試料を用い、Pdで観測された起電圧で評価した結果、熱処理時の最高温度が400℃のときに出力電圧が最大を示した(非熱処理時の約1.3倍)。