2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[13p-PA5-1~4] 13.3 絶縁膜技術

2015年9月13日(日) 16:00 〜 18:00 PA5 (イベントホール)

16:00 〜 18:00

[13p-PA5-4] GaNパワートランジスタのためのゲート酸化膜堆積技術の開発

〇前川 拓也1、高木 翔太1、荒井 哲司1、有元 圭介1、山中 淳二1、中川 清和1、高松 利行2、上野 勝典3 (1.山梨大、2.SST、3.富士電機)

キーワード:GaNパワートランジスタ、ゲート酸化膜