[13p-PA5-1~4] 13.3 絶縁膜技術

[13p-PA5-4] GaNパワートランジスタのためのゲート酸化膜堆積技術の開発

〇前川 拓也¹、高木 翔太¹、荒井 哲司¹、有元 圭介¹、山中 淳二¹、中川 清和¹、高松 利行²、上野 勝典³ (1.山梨大、2.SST、3.富士電機)

キーワード：GaNパワートランジスタ、ゲート酸化膜