[14a-1B-1~11] 21.1 Joint Session K

[14a-1B-10] Influence of Heat-treatment Temperature on NiO Growth on MgO by Sol−Gel Method

〇Yoshihiro Kokubun¹, Masato Koyanagi¹, Shinji Nakagomi¹ (1.Ishinomaki Senshu Univ.)

Keywords:nickel oxide,sol-gel method,thin film growth

ゾル－ゲル法によるMgO基板上でのNiO薄膜成長に対する焼成温度の影響について、Ｘ線回折による結晶構造解析とSIMSによる深さ方向の組成分析で調べた。焼成温度が900℃以上になると、MgO基板からNiO薄膜へのMgの拡散が顕著になり、薄膜はMgNiO混晶となる。また、LiドープNiO薄膜では、Mgの拡散が抑制されていることが分かった。