[14a-2F-1~9] 3.7 レーザープロセシング

[14a-2F-2] レーザープラズマ輻射EUV光によるポリジメチルシロキサンの微細加工

〇浦井 ひかり¹、小川 瑞生¹、深見 慎太郎¹、鳥居 周一¹、牧村 哲也¹、中村 大輔²、高橋 昭彦²、岡田 龍雄²、新納 弘之³ (1.筑波大院　数理物質、2.九大院　シス情、3.産総研)

キーワード：極端紫外光、ポリジメチルシロキサン、微細加工