2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

3 光・フォトニクス » 3.7 レーザープロセシング

[14a-2F-1~9] 3.7 レーザープロセシング

2015年9月14日(月) 09:30 〜 12:00 2F (221-2)

座長:下間 靖彦(京大)

11:00 〜 11:15

[14a-2F-6] 液中レーザーアブレーションによるシリコンナノ粒子の作製

林 和平1、Chewchinda Pattarin1、小田原 修1、〇和田 裕之1 (1.東工大総理工)

キーワード:シリコン、ナノ粒子、アブレーション

液中レーザーアブレーション法を用いてシリコンナノ粒子を作製した。レーザーはNd:YAG/SHGを用い、溶媒には超純水を用いた。シリコン粉末を用いた場合は、アブレーションによって粒子はナノ化されたが、同時に表面の酸化が確認された。酸化防止のためにアルゴンバブリングを行ったところある程度の酸化抑制効果が示唆された。