2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

17 ナノカーボン » 17.1 成長技術

[14a-2U-1~12] 17.1 成長技術

2015年9月14日(月) 09:00 〜 12:15 2U (233)

座長:千足 昇平(東大)

09:15 〜 09:30

[14a-2U-2] NEXAFSその場測定を用いたSiC表面分解法によるカーボンナノチューブ生成初期過程の解明

〇丸山 隆浩1、成塚 重弥1、雨宮 健太2 (1.名城大理工、2.KEK PF)

キーワード:カーボンナノチューブ、NEXAFS、SiC

SiC表面分解法によりカーボンナノチューブ(CNT)が生成する過程をNEXAFS法によるその場測定により明らかにした。Siの脱離とともにSiC結晶表面に平行にグラフェンフラグメントが形成され,その後,Siの脱離とともにCNTの側壁部分が形成されCNTが垂直配向していく様子が観測された。測定結果は最近のDFTB/MDによるシミュレーション結果とよく一致した。