2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.3 絶縁膜技術

[14a-4C-1~10] 13.3 絶縁膜技術

2015年9月14日(月) 09:00 〜 11:45 4C (432)

座長:渡部 平司(阪大),井上 真雄(ルネサス)

09:45 〜 10:00

[14a-4C-4] High-k/GeNx/Ge構造における界面特性評価

〇田中 佑治1、岩崎 好孝1、上野 智雄1 (1.農工大院工)

キーワード:ゲルマニウム、窒化膜