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[14a-4D-1] バイオナノテンプレートと中性粒子ビームを用いたGaAs量子ナノピラーの発光再結合過程
キーワード:中性粒子ビーム、ナノピラー、量子ドット
バイオナノテンプレートと中性粒子ビームを用いた超低損傷トップダウンプロセスを使用することで、従来のトップダウンプロセスでは実現できない高密度かつ20 nm以下の量子ドットが含まれた、ナノピラーを作製することに成功した。PL測定では、1.57〜1.64 eVにかけて複数のピークが観測でき、COMSOLシミュレーション及びTEM観察の結果から、NP中のNDの量子準位の発光であることがわかった。