2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[14a-PA1-1~6] 6.1 強誘電体薄膜

2015年9月14日(月) 09:30 〜 11:30 PA1 (イベントホール)

09:30 〜 11:30

[14a-PA1-5] PZT薄膜プロセスモニターPrd33,fの比較

〇牧本 なつみ1、伊藤 寿浩1,2、小林 健1 (1.産総研、2.東大)

キーワード:圧電定数、残留分極

圧電MEMSプロセスにおいて、PZT膜膜を微細加工する際、プロセスモニターとして従来は残留分極Prを指標とするのが主であった。前回我々は、圧電定数d33,fが実デバイスで必要な圧電定数d31と一定の関係にあり、MEMSプロセスの早い段階から測定できることを報告した。今回は、圧電定数d33,fのプロセスモニターとしての適性を、残留分極Prと比較し、プロセスモニター行う場合により効率が良いことを明らかにした。