2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

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[14p-4E-1~21] 7.6 イオンビーム一般

2015年9月14日(月) 12:30 〜 18:15 4E (437)

座長:阿保 智(阪大),瀬木 利夫(京大),柳沢 淳一(滋賀県立大)

17:30 〜 17:45

[14p-4E-19] TOF-SIMSを用いた高温環境下におけるSi-Al界面の観察

〇渡邉 騎通1、間宮 広明1、阿部 冨士雄2、大久保 雅隆3、北澤 英明1 (1.物材機構 量子ビーム、2.物材機構 材料信頼性評価、3.産総研 エレクトロニクス・製造領域)

キーワード:飛行時間型二次イオン質量分析法、高温ステージ

耐環境下コーティング(EBC)の膜中や耐熱金属との界面における水素、酸素、水等の軽元素の拡散現象を捉えることを目的として、TOF-SIMS装置に、高温ステージ(最高温度600℃)を導入した。テスト試料として、Si基板上にAl(25nm)/Co(2nm)の積層膜を作製し、共晶点(575℃)直上の高温環境下で、Si-Al界面での組織観察を、TOF-SIMSを用いて観察した。