[14p-PA12-1~9] 3.7 Laser processing

[14p-PA12-3] Study of p-Si surface damaged by Nd:YAG LASER processing in HF solution

〇(M2)Akihsa Miyazawa¹, Murata Yuma¹, Ono Hiroshi¹, Tanaka Katumi¹ (1.UEC)

Keywords:silicon,evaluation of surface,LASER processing

Si基板の表面を加工し、表面積を増加させることで電極界面での電荷移送反応を増やしエネルギー変換効率の改善へ応用する研究として、太陽電池や光電気化学水分解がある。このようなSi表面加工の方法として陽極酸化法などがあるが、本研究は新たにp-SiをHF溶液中でLASER加工することによりSi表面積を増加させることを期待した。FT-IRの評価からSi-Hxのスペクトルを観測し、表面の増加を確認した。また、ラマン分光法からSi表面が非晶質に変質したことが分かった。