2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

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[14p-PA13-1~21] 6.3 酸化物エレクトロニクス

2015年9月14日(月) 18:30 〜 20:30 PA13 (イベントホール)

18:30 〜 20:30

[14p-PA13-15] ゾルゲル法によるCuYO2薄膜の形成と結晶性の作成条件依存性

〇惠原 貴志1,2、阿部 真理奈1、中西 貴吉1、佐々木 広平1 (1.石巻専修大理工、2.石巻専修大人間)

キーワード:ゾルゲル法、CuYO2、デラフォサイト

デラフォサイト型酸化物であるCuYO2薄膜の作成をゾルゲル法で行った。原料物質として酢酸銅と酢酸イットリウム、溶媒2-メトキシエタノール、錯化剤2-アミノエタノールを用いた溶液を石英基板上にスピンコートし、 窒素中熱処理を行って試料を作製した結果、800℃、10時間の加熱によりc軸配向した結晶の形成が確認された。しかし、CuAlO2に比べ、c軸配向する熱処理条件の範囲は狭いことがわかった。