[14p-PA13-1~21] 6.3 Oxide electronics

[14p-PA13-17] Microstructural Analysis of Nb doped TiO₂ Transparent Conductive Film by Transmission Electron Microscope

〇Daisuke Ogawa¹, Shoichiro Nakao^2,3, Kazuo Morikawa¹, Yasushi Hirose^2,3,4, Tetsuya Hasegawa^2,3,4 (1.TIRI, 2.KAST, 3.CREST, 4.Univ. of Tokyo)

Keywords:transparent conductive film,transmission electron microscope,oxide electronics

NbドープTiO₂（TNO）透明導電膜の実用化に取り組んでいる。スパッタ法で作成したTNO膜の膜内構造のプロセス圧力（P_w）依存性を、透過電子顕微鏡による断面観察で評価した。その結果、P_wが低いほど、膜密度の揺らぎの小さい均質な膜となることがわかった。注目すべき事に0.50 Paで作製したスパッタ膜は、パルセレーザー堆積法で作成した膜と同等の低い抵抗率と高い移動度とを示した。膜内構造と輸送特性との相関の詳細は当日報告する。