[14p-PA5-1~11] 9.5 新機能材料・新物性

[14p-PA5-10] スパッタ処理されたSi基板へのEr₂O₃膜の作製における照射の効果

〇藤田 将弥^1,2、朝岡 秀人²、山口 憲司² (1.茨城大学、2.原子力機構)

キーワード：イオンビーム、薄膜、シリサイド