[15a-PB2-1~19] 12.1 作製・構造制御

[15a-PB2-6] スパッタ成膜時の2次電子衝撃抑制による有機EL素子の動作特性の改善

〇星 陽一¹、濱口 大地¹、小林 信一¹、内田 孝幸¹、澤田 豊¹ (1.東京工芸大学工学部)

キーワード：有機EL素子、スパッタ堆積、低ダメージスパッタ

OLEDの上部電極膜の作製法として対向ターゲット式低ダメージスパッタ法を検討し、発光特性の大幅な改善の原因やスパッタ成膜条件が動作特性に及ぼす影響について、詳しく調べた。その結果、スパッタ成膜中の高エネルギー２次電子による基板衝撃の抑制と基板に到達するスパッタ堆積粒子の運動エネルギーを最適化することで、スパッタ法でも蒸着法に引けをとらない良好な発光特性を持つ素子が作製できるが分かったので報告する。