[15a-PB2-1~19] 12.1 作製・構造制御

[15a-PB2-9] 加熱融解法により作製した3-methyl-4-nitropyridine-N-oxid(POM)薄膜の膜質及び配向制御

〇板倉 聡史¹、岡本 敏弘¹、原口 雅宣¹ (1.徳島大院)

キーワード：非線形光学、第二高調波発生、電界配向制御

3-methyl-4-nitropyridine-N-oxide (POM)は大きな二次の非線形性が得られることで知られている。しかし、POM薄膜をスピンコート等の薄膜作成法で作製すると非常に大きな表面凹凸ができてしまう問題があった。我々はPOMを基板上で加熱融解し、再結晶化する際に圧力を加えることで光学的に平滑な薄膜を作製することに成功した。本研究では加熱融解で作製した薄膜の評価に加え、さらに大きな非戦形成が得られると予想される電界配向法で作製したPOM薄膜の評価を行うこととした。