PDF ダウンロード スケジュール 4 いいね! 0 09:30 〜 11:30 [15a-PB3-9] キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化Ⅲ 〇北川 淳嗣1、羽渕 仁恵1、飯田 民夫1、大橋 史隆2、伴 隆幸2、久米 徹二2、野々村 修一2 (1.岐阜高専、2.岐大工) キーワード:シリコンクラスレート、イオン注入