2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(ポスター講演)

13 半導体 » 13.2 探索的材料物性・基礎物性

[15a-PB3-1~12] 13.2 探索的材料物性・基礎物性

2015年9月15日(火) 09:30 〜 11:30 PB3 (白鳥ホール)

09:30 〜 11:30

[15a-PB3-9] キセノンイオンを注入したシリコンのアニールによる構造変化Ⅲ

〇北川 淳嗣1、羽渕 仁恵1、飯田 民夫1、大橋 史隆2、伴 隆幸2、久米 徹二2、野々村 修一2 (1.岐阜高専、2.岐大工)

キーワード:シリコンクラスレート、イオン注入