2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[15p-1C-1~18] 13.5 デバイス/集積化技術

2015年9月15日(火) 13:15 〜 18:00 1C (135)

座長:齋藤 真澄(東芝),入沢 寿史(産総研)

13:15 〜 13:30

[15p-1C-1] FD-SOTB nMOSFETにおけるRTN振幅統計分布の基板バイアス依存性

〇Jang Kyungmin1、水谷 朋子1、竹内 潔1、更屋 拓哉1、小林 正治1、平本 俊郎1 (1.東大生研)

キーワード:ランダムテレグラフノイズ、FDSOI、FD-SOTB nMOSFET

完全空乏型SOTB MOSFETにおいて,ランダムテレグラフノイズ(RTN)の統計分布の 基板バイアス依存性を系統的に調べた.SOTB FETには表の酸化膜界面に加えて, 裏にSOI/BOX界面が存在するが,RTNの基板バイアス依存性の実測から,RTN振幅 の統計分布にSOI/BOX界面の影響は生じているとの結果は得られなかった.