2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.5 デバイス/集積化技術

[15p-1C-1~18] 13.5 デバイス/集積化技術

2015年9月15日(火) 13:15 〜 18:00 1C (135)

座長:齋藤 真澄(東芝),入沢 寿史(産総研)

16:45 〜 17:00

[15p-1C-14] 硫黄粉末アニールの減圧化によるスパッタMoS2薄膜の結晶性向上

〇(M1)松浦 賢太朗1、大橋 匠1、石原 聖也2、澤本 直美2、日比野 祐介2、須田 耕平2、角嶋 邦之1、筒井 一生1、小椋 厚志2、若林 整1 (1.東工大、2.明治大学)

キーワード:二硫化モリブデン、スパッタリング法、硫黄粉末アニール