[15p-2L-1~13] 6.1 Ferroelectric thin films

[15p-2L-13] Low temperature formation of Pb(Zr,Ti)O₃ films by thermal UV/O₃ treatment in solution process

〇Yuki Tagashira¹, Phan Trong Tue^1,2, Reijiro Shimura¹, Keisuke Satou^1,3, Kazuhiro Fukada^1,2, Jinwang Li¹, Tatsuya Shimoda^1,2, Yuzuru Takamura^1,2 (1.JAIST, 2.JST-CREST, 3.JSR)

Keywords:MEMS,PZT,thermal UV/O3 treatment

研究ではオゾン中でのUV加熱処理(UV/O₃加熱処理)を用いてPZT薄膜の低温作製を試みた。UV/O₃処理は基板洗浄に用いられていたが、近年では溶液プロセスにおける酸化物薄膜のプロセスの低温化に適応され始めている。今回我々はPZT薄膜作成の低温化にUV/O₃加熱処理を適応した。PZTの原料として薄膜形成剤をスピンコーティングで塗布し大気中でホットプレートにより乾燥、UV/O₃加熱処理を行った。その後ホットプレートにより450 ℃大気中で結晶化させた。