The 76th JSAP Autumn Meeting, 2015

Presentation information

Oral presentation

16 Amorphous and Microcrystalline Materials » 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

[15p-2S-1~14] 16.3 Bulk, thin-film and other silicon-based solar cells

Tue. Sep 15, 2015 1:30 PM - 5:15 PM 2S (3F Lounge)

座長:田口 幹朗(パナソニック),久松 正(シャープ)

2:30 PM - 2:45 PM

[15p-2S-5] LIA reactive sputtered film evaluation for the solar cell application

〇Atsushi Osawa1 (1.SCREEN Finetech)

Keywords:AlOx,passivation,sputter

高効率結晶シリコン太陽電池として PERC (Passivated Emitter Rear Cell) 構造が広く知られているが、P型基板裏面のパシベーション膜として負の固定電荷をもつAlOx (アルミナ) 膜の実用化が急がれている。 このAlOx膜の成膜方法としては ALD (Atomic layer deposition) 法が主流であるが、より安全で高速成膜が期待できるスパッタ法にも注目が集まっている。 我々は独自技術である LIA (Low Inductance Antenna) を用いたプラズマ源を利用して、制御性の良い反応性と大面積化を実現するスパッタ装置を開発し、太陽電池用結晶基板に成膜してその効果を確認した。