2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

講演情報

一般セッション(口頭講演)

16 非晶質・微結晶 » 16.3 シリコン系太陽電池

[15p-2S-1~14] 16.3 シリコン系太陽電池

2015年9月15日(火) 13:30 〜 17:15 2S (3Fラウンジ)

座長:田口 幹朗(パナソニック),久松 正(シャープ)

14:30 〜 14:45

[15p-2S-5] LIAスパッタアルミナ膜の太陽電池への応用評価

〇大澤 篤史1 (1.SCREENファインテック)

キーワード:AlOx、パッシベーション、スパッタ

高効率結晶シリコン太陽電池として PERC (Passivated Emitter Rear Cell) 構造が広く知られているが、P型基板裏面のパシベーション膜として負の固定電荷をもつAlOx (アルミナ) 膜の実用化が急がれている。 このAlOx膜の成膜方法としては ALD (Atomic layer deposition) 法が主流であるが、より安全で高速成膜が期待できるスパッタ法にも注目が集まっている。 我々は独自技術である LIA (Low Inductance Antenna) を用いたプラズマ源を利用して、制御性の良い反応性と大面積化を実現するスパッタ装置を開発し、太陽電池用結晶基板に成膜してその効果を確認した。