2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

11 超伝導 » 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

[15p-4A-1~17] 11.2 薄膜,厚膜,テープ作製プロセスおよび結晶成長

2015年9月15日(火) 13:15 〜 17:45 4A (431-1)

座長:尾崎 壽紀(関西学院大),荻野 拓(東大)

13:45 〜 14:00

[15p-4A-3] 異なる基板温度で製作したIBAD金属テープ上SmBa2Cu3Oy線材の厚膜化の検討

〇徐 千語1、三浦 峻1、一野 祐亮1、吉田 隆1、衣斐 顕2、和泉 輝郎2 (1.名大工、2.ISTEC-SRL)

キーワード:超伝導体

REBCO超伝導体を線材化し、MRIやリニアなどへの応用が期待されており、その線材には、高い臨界電流を有する厚い超伝導層が必要である。本研究では、REBCO超伝導体の膜厚増加時に生成するCu系酸化物やa軸配向相などの異相からなるDead Layerの生成を抑制し、自己磁場下臨界電流がより高い厚膜を製作することを目的として、成膜中の成長温度を変化させることで、膜内の析出物の生成を抑制するプロセスの探索を行った。