2015年 第76回応用物理学会秋季学術講演会

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一般セッション(口頭講演)

13 半導体 » 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

[15p-4C-1~14] 13.8 化合物及びパワー電子デバイス・プロセス技術

2015年9月15日(火) 14:00 〜 17:45 4C (432)

座長:塩島 謙次(福井大)

17:15 〜 17:30

[15p-4C-13] AlGaNチャネル2DEGヘテロ構造の電子移動度解析

〇三好 実人1、江川 孝志1 (1.名工大)

キーワード:AlGaN、2次元電子ガス、移動度

AlGaNチャネルを有する窒化物系2DEGヘテロ構造は、GaNチャネル構造に比べ高い阻止耐圧が期待できるが[1]、その一方で電子移動度の低さが指摘されている。本研究では、AlGaNチャネルヘテロ構造の電子移動度向上の可能性を検討するために、この構造で最も寄与が大きいと予測されるチャネル層での合金散乱を含めた2DEG移動度の数値解析を行ったので報告する。